1. Установка предназначена для операции нанесения плёнок фоторезистов ФП-9120 ТУ 6-36-00210134-121-0-96 и ФП-2550 толщиной 0,5…5 мкм методом распыления азотом или воздухом при производстве кварцевых чувствительных элементов.
2. Установка применяется автономно.
3. Установка поставляется исполнения УХЛ категории 4.2 по ГОСТ 15150-69.
4. Питание установки осуществляется от сети переменного тока 220 В, 50 Гц с нормами качества электрической энергии по ГОСТ13109-67. Максимальный потребляемый установкой ток по фазам не более 5 А.
5. Установка обеспечивает работу при подаче азота газообразного сорт 2 ГОСТ 9293-74 давлением 0.5*105¸3*105 Па (0.5¸3 кгс/см2 ), точка росы минус 60 оС и очищенного сжатого воздуха при давлении (0.5...3)х105 Па(0.5...3) кгс/см2, точка росы минус 60 оС;
6. Для размещения установки на месте её эксплуатации необходимы:
- площадь 6 м2 без фундамента.
- вытяжная вентиляция с расходом воздуха не менее 600 м3/ч.
- контур заземления.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ДАННЫЕ.
· Питание установки…………………………………………………….220В, 50Гц
· Распыляемое вещество: ………..……………..жидкости с вязкостью от 1 до 17 сантипуаз
· Средний диаметр капель, мкм., не более ….………………………………..0.5-2
· Вероятность попадания размера капли в интервал от 0.5 мкм до 10 мкм, % ………………………………………………………………………………….99,9
· Максимальная производительность распыления фоторезиста, мл/с..........1,2
· Количество пластин, обрабатываемых за один цикл, шт. …….……………..4
· Размеры обрабатываемых пластин, мм……………….23x25x0.25, 23x25x0.35, 23x25x0.4
· Количество кассет с пластинами, устанавливаемых на центрифугу, ...……….1
· Количество пластин в кассете, шт. ……………………………………………………………….4
· Максимальная частота вращения карусели об/мин………………………………..100
· Количество подаваемых (неагрессивных) газов, шт.……………………………………2
· Максимальный расход подаваемых рабочих газов по каждому каналу, л/час..10
· Давление подаваемых газов на входе в установку, атм.……………………..0.5...3
· Тип газов, подаваемых в камеру при работе…………………………........азот, воздух
· Управление технологическим процессом………………. ……………..автоматическое
· Толщина нанесения пленок фоторезиста, мкм…………………………………..0.8-5
· Диапазон времени распыления установки, мин……..………………………….до 5
· Максимально достижимая неравномерность толщины распыляемых пленок
при полном соответствии фоторезиста и подаваемых газов техническим условиям, % ±5